2023年6月，北方華創(chuàng)正式發(fā)布12英寸去膠機ACE i300，開拓12英寸刻蝕領域全新版圖。去膠工藝作為刻蝕工藝的一種，是晶圓制造過程中的一個重要環(huán)節(jié)，光刻膠在完成圖形復制和傳遞作用后能否去除干凈直接影響到后續(xù)工藝是否能夠進行，甚至關(guān)系到器件的性能。
ACE i300主要應用于12英寸存儲、邏輯、圖像傳感器等領域的去膠工藝，以良好的性能表現(xiàn)，實現(xiàn)刻蝕后去膠（post etch strip）、離子注入后去膠（post implant strip）、去殘膠（descum）、表面處理（surface treatment）等去膠工藝全覆蓋。
ACE i300
性能良好，多項關(guān)鍵工藝指標達到領域先進水平。ACE i300依托北方華創(chuàng)多年的刻蝕經(jīng)驗積累，采用高密度、低損傷等離子源設計，同時配備北方華創(chuàng)成熟的遠程ICP（電感耦合等離子體源）技術(shù)，達到高水平的去膠速率，并實現(xiàn)去膠損傷抑制；采用獨立腔室結(jié)構(gòu)設計，實現(xiàn)均勻的流場分布，去膠均勻性表現(xiàn)良好；腔室壁配備獨立控溫系統(tǒng)，實現(xiàn)良好的顆粒控制水平。
以市場為導向，為客戶創(chuàng)造更大價值。ACE i300可配置大氣、真空兩種傳輸平臺，滿足客戶不同工藝需求；同時，搭配雙腔(twin-chamber)設計，產(chǎn)能表現(xiàn)優(yōu)秀；機臺維護便捷，關(guān)鍵耗材使用壽命長，滿足客戶低成本運維需求。
作為國產(chǎn)刻蝕設備的開拓者及引航者，北方華創(chuàng)將始終以科技創(chuàng)新為驅(qū)動，不斷開拓刻蝕領域全新應用，助力更多客戶實現(xiàn)更大價值，推動產(chǎn)業(yè)進步，創(chuàng)造無限可能！
